熱膨脹儀
更新日期2023-02-15
所屬分類熱膨脹儀
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產品描述：熱膨脹儀制造商Linseis研發的單桿-、雙桿-、差示-、四桿-、淬火-（ 熱膨脹相變儀）、激光和光學法膨脹儀等多種設備。Linseis多年的研究經驗（始于1953年），Linseis的具有的優異性能。
產品概述
| 品牌 | LINSEIS/林賽斯 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 綜合 |
熱膨脹儀大大拓展了熱分析的應用范圍。該系統可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃，并在該壓力達到100/150 bar的環境中測量的材料的膨脹(長度的改變)。此設備是目前世界上*可用的高壓膨脹儀?？蛇x用水蒸氣發生裝置和多氣體控制系統。
為了測量數據和拓寬測量范圍，可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進行分析。耦合后的功能超過單獨部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術和綜合硬件和軟件，采用不同數據庫對數據進行分析以得到*的結果。
熱膨脹儀參數：
| 型號 | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 |
| 溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C |
| zui大壓力 | zui大150 bar | zui大100 bar |
| 真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar |
| 樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C |
| Al2O3 < 1750°C | Al2O3 < 1750°C | |
| zui大樣品長度 | 50 mm | 50 mm |
| 樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm |
| 可調樣品壓力 | zui大 1000 mN | zui大 1000 mN |
| 測量范圍 | 500 / 5000 µm | 500 / 5000 µm |
| 分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm |
| 可選裝置 | 壓力可控混氣系統 (MFC′s) | 壓力可控混氣系統 (MFC′s) |
| 氣氛 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 |
| * 取決于不同爐體 | ||
| ** 不適用于石墨加熱爐 | ||
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